Aufgehängte SU-8-Strukturen für monolithische mikrofluidische Kanäle

SU-8 photoresist wird häufig im Bereich der Mikrofertigung als Strukturmaterial oder zum Formen von mikrofluidischen Geräten verwendet. Eine wesentliche Einschränkung ist jedoch die Schwierigkeit, teilweise freistehende SU-8-Strukturen oder monolithische geschlossene Hohlräume und Kanäle auf dem Chip zu verarbeiten.

Herstellungsprozess einer aufgehängten SU-8-Struktur für einen monolithischen geschlossenen SU-8-Mikrokanal. eine Standard-SU-8-Schicht wird auf einem Siliziumwafer spinbeschichtet, gefolgt von einem Soft-Bake, der Belichtung zur Definition der Kanalwände (Maske 1) und einem Post-Bake. b Eine zweite Schicht mit einer modifizierten HOCH-UV-Absorption SU-8 wird spinbeschichtet, weich gebacken und ausgesetzt, um das Dach des Mikrokanals (Maske 2) zu definieren.c Belichtung durch Maske 1 wird vor dem Nachbacken aufgetragen, um die Haftung zwischen den beiden SU-8-Schichten zu verbessern. d Die SU-8 Doppelschicht wurde entwickelt, um den Mikrokanal

Y. Moser • R. Forti • S. Jiguet • T. Lehnert • M. A. M. Gij

Microfluid Nanofluid (2011) 10:219–224