Un photoresist composite conducteur a été développé pour le photopatterning direct de l'électrodesUn photoresist composite conducteur a été développé pour le photopatterning direct des électrodes. Il est basé sur une dispersion de nanoparticules d'argent dans SU8, un photoresist non conducteur, de ton négatif. Les structures fabriquées ont une consistance électrique-tivity à une faible teneur en argent d'environ 6 vol.-%.
Jiguet, Sébastien ; Bertsch, Arnaud ; Heinrich Hofmann ; Philippe Renaud
Matériaux fonctionnels avancés, num. 15, 2005, p. 1511-1516