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Gersteltec Engineering Solutions
MEMSおよびマイクロエレクトロニクス用のスイス製SU-8フォトエポキシ機能製品

SU8銀ナノ粒子ポリマー複合材料の陽子線書き込みによる3次元自由立ち位置マイクロ構造

プロトンビームリソグラフィは、マスクレスダイレクトライトロソグラフィ技術(レジストおよび半導体材料の範囲で3次元微細構造を作り出すのに適した)が、導電性の作成に有効なツールとして実証されています。Su 8 + ナノシルバーポリマー複合材料の自立したマイクロ構造。

a) 1.0および2.5MeV陽子ビームによって作成された3次元自立片持ち構造は、15%Ag/Su8ナノコンポジットの75ミクロン厚い層上に発生する。4b)15%Ag/Su8ナノコンポジットの75ミクロン厚層上の2.5MeV陽子ビームによって作成された試験柱構造

H.イグベネフとS.ジゲ

材料科学工学 40 (2012)012002, 日付: 2012,