Das wachsende Interesse an mikroelektromechanischen Systemen (MEMS) hat die Anforderungen an photoresist-Materialien mit verbesserten Reibungs- und Verschleißeigenschaften für mechanisch belastete 3D-förmige Mikrostrukturen erhöht.

Jiguet, S. ; Judelevicz, M. ; Mischler, S. ; Hofmann, H. et al.
Oberflächen- & Beschichtungstechnik, Vol. 201, num. 6, 2006, S. 2289-2295