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Gersteltec Engineering Solutions
Produits fonctionnels SU-8 photoépoxy de fabrication suisse pour MEMS, LIGA et Microélectronique

Day

mai 29, 2011
SU-8 photoresist est couramment utilisé dans le domaine de la microfabrication comme matériau structurel ou pour le moulage des dispositifs microfluidiques. Une limitation majeure, cependant, est la difficulté de traiter les structures PARTIELLEMENT autonomes SU-8 ou monolithiques cavités fermées et les canaux sur puce Processus de fabrication d'une structure SU-8 suspendue pour un microcanal SU-8...
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Nous rapportons un processus pour la réalisation des films de polyimide avec la microporosity faite sur commande basée sur la dépolymérisation induite par la chaleur des microstructures polypropylène-incorporées de polypropylène de carbonate. Vues transversales SEM de tableaux fabriqués de microcavités dans une couche PI : a) 30 m de large vides; b) des vides de...
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