Une nouvelle résistance composite photosensible électriquement conductrice a été formulée et utilisée pour construire des microcomposants. Ce matériau composite est basé sur le su-8 photopolymer, un photoresist isolant à tons négatifs, dans lequel des nanoparticules d'argent ont été dispersées pour améliorer les propriétés électriques du polymère. Les propriétés de ce nouveau composite photosensible ont été caractérisées par des mesures optiques et électriques. Les structures composites à motifs peuvent être obtenues pour un large éventail de valeurs de la conductivité électrique, en variant la fraction de volume de poudre du composite. La résolution latérale des structures produites a été évaluée, et selon les conditions de modelage, peut être meilleure que 5 /spl mu/m.
Jiguet, S; Bertsch, A ; Hofmann, H ; Renaud, P
MEMS 2004: 17TH IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEMS, TECHNICAL DIGEST, 2004, p. 125-128
Présenté à: 17th IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems, Maastricht, NETHERLANDS, JAN 25-29, 2004.