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Gersteltec Engineering Solutions
MEMSおよびマイクロエレクトロニクス用のスイス製SU-8フォトエポキシ機能製品

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SU8とアルミニウムの高アスペクト比マイクロモールドを犠牲層として使用した自立型片持ち装置など、セラミック型M...
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シリカ/SU-8ナノ複合マイクロカット(50nm)の透過電子顕微鏡(TEM)画像。シリカナノ粒子は、エポキシマ...
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マイクロ部品やコーティング用途の機能性材料としての低応力SU8ナノコンポジットの使用について本稿で述べる。 S...
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マイクロエレクトロメカニカルシステム(MEMS)への関心の高まりにより、機械的に装填された3D形状のマイクロ構...
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石英パッケージ内の水平面インダクタの製造プロセスの回路図断面。 リロイ, クリスティン ;ピサンニ,マルセロ・...
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電極の直接フォトパターニング用導電性複合フォトレジストを開発した導電性複合フォトレジストは、電極の直接フォトパ...
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本研究では、UV-LIGAおよびマイクロステレオリソグラフィー微細加工プロセスのための新しい複合フォトレジスト...
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以下の論文では、ポリイミドおよびSU-8におけるマイクロ流体デバイスの製造のための犠牲層法について説明する。こ...
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本論文では、複合材料中の複雑な3D成分を製造するためのマイクロステレオリソグラフィープロセスで使用できる新しい...
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マイクロステレオリソグラフィーは、プラスチック材料中の小さくて複雑な3次元(3D)コンポーネントの製造を可能に...
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