電極の直接フォトパターニング用導電性複合フォトレジストを開発した導電性複合フォトレジストは、電極の直接フォトパターニング用に開発されました。これは、非導電性、ネガティブトーンフォトレジストであるSU8における銀ナノ粒子の分散に基づいています。製造された構造は、約6vol.-%の低銀含有量で電気誘導性を有する。
ジゲ, セバスチャン ;ベルツ,アルノー;ホフマン, ハインリッヒ ;ルノー,フィリップ
高度な機能性材料、num。15, 2005, P. 1511-1516
電極の直接フォトパターニング用導電性複合フォトレジストを開発した導電性複合フォトレジストは、電極の直接フォトパターニング用に開発されました。これは、非導電性、ネガティブトーンフォトレジストであるSU8における銀ナノ粒子の分散に基づいています。製造された構造は、約6vol.-%の低銀含有量で電気誘導性を有する。
ジゲ, セバスチャン ;ベルツ,アルノー;ホフマン, ハインリッヒ ;ルノー,フィリップ
高度な機能性材料、num。15, 2005, P. 1511-1516