质子束光刻无掩模直接写平版技术(非常适合在一系列电阻和半导体材料中产生三维微结构)被证明是创建导电性的有效工具苏8+纳米银聚合物复合材料中的独立微结构。 a) 3 尺寸独立悬臂结构,由 1.0 和 2.5MeV 质子束在 75 微米厚的 15% Ag/Su8 纳米复合材料层上创建。4b) 测试柱结构由 2.5MeV 质子束在 75 微米厚的 15% Ag/Su8 纳米复合材料层上创建 伊格贝内胡和S.吉盖 材料科学与工程 40 (2012)012002, 日期: 2012,
